汇达材料取得一种CMP修整盘专利, 提升了修整效果

发布日期:2025-06-25 05:53    点击次数:115


金融界2025年6月14日消息,国家知识产权局信息显示,武汉市汇达材料科技有限公司取得一项名为“一种CMP修整盘”的专利,授权公告号CN222971901U,申请日期为2024年07月。

专利摘要显示,本实用新型提供一种CMP修整盘,涉及半导体制造设备技术领域,包括:盘体;多个金刚石颗粒,设置于所述盘体的一侧表面的中部;环形沟槽,设置于所述金刚石颗粒所在侧面的中部且相对所述侧面凹陷设置;以及多个排液孔,分散设置于所述环形沟槽内,所述排液孔贯穿所述盘体延伸至所述盘体的另一侧表面,所述排液孔用于输入负压以将所述环形沟槽内的抛光液抽出。

天眼查资料显示,武汉市汇达材料科技有限公司,成立于2020年,位于武汉市,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉市汇达材料科技有限公司参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息15条,此外企业还拥有行政许可4个。

本文源自:金融界




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